삼양엔씨켐은 반도체 제조에 사용되는 정밀화학소재를 전문적으로 생산하는 대한민국 기업입니다.
2008년에 설립되었으며, 2021년 삼양그룹 계열사로 편입되었습니다.
이 회사는 반도체 제조 공정 중 포토공정(노광공정)과 세정공정에 필요한 핵심 소재를 생산하며, 최근 2025년 2월 3일 코스닥 시장에 상장되었습니다[1][3][7].
1. 포토공정용 소재: 반도체 웨이퍼에 회로를 형성하는 데 사용되는 포토레지스트(PR)의 핵심 원료인 폴리머(Polymer)와 광산발산제(PAG)를 생산합니다.
PR은 빛에 민감하게 반응하여 회로 패턴을 형성하는 데 필수적인 소재로, 삼양엔씨켐은 이를 국내외 주요 PR 제조사에 공급하고 있습니다[2][4][6].
현재 KrF(구세대 공정) 제품이 주력이며, 차세대 ArF 및 EUV용 소재 개발에도 박차를 가하고 있습니다[2].
2. Wet-Chemical 소재 세정제, 현상제, 박리제 등 반도체 제조 공정에서 사용되는 고기능성 습식 화학제품을 생산합니다. 이 제품들은 식각 및 클리닝 공정에서 불량률을 줄이고 수율을 높이는 데 중요한 역할을 합니다[1][4].
주요 성과와 비전 - 삼양엔씨켐은 일본 의존도가 높은 반도체 소재 시장에서 국산화를 목표로 기술 개발과 품질 향상에 힘쓰고 있습니다. - 2022년에는 소부장 으뜸기업으로 선정되었으며, 글로벌 시장 진출을 통해 첨단산업용 소재의 선두주자로 자리매김하고자 합니다[1][4]. - 2023년 기준 매출 비중은 PR용 소재가 52.6%, Wet-Chemical이 16.3%를 차지하며, 지속적인 성장세를 보이고 있습니다[1].
삼양엔씨켐은 반도체 산업의 핵심 소재 국산화를 선도하며, 기술력과 품질 경쟁력을 바탕으로 글로벌 시장에서도 입지를 확대하고 있는 기업입니다.
